Temperatura powierzchni maszyny do formowania próżniowego maszyny do powlekania wiązką elektronów jest proporcjonalna do intensywności wiązki elektronów

Temperatura powierzchni maszyny do formowania próżniowego maszyny do powlekania wiązką elektronów jest proporcjonalna do intensywności wiązki elektronów

Temperatura powierzchni folii i obrabianych części jest proporcjonalna do natężenia wiązki elektronów. Intensywność wiązki elektronów można kontrolować, kontrolując przepływ prądu do żarnika, kontrolując w ten sposób temperaturę powierzchni materiału cienkowarstwowego i obrabianych części.

Maszyna do formowania próżniowego Maszyna do powlekania wiązką elektronów musi najpierw podgrzać włókno

Gdy działa powlekanie wiązką elektronów, włókno musi zostać najpierw podgrzane. Prąd podgrzewania żarnika wynosi 60-90A, a czas podgrzewania wynosi ponad 20 minut. Po podgrzaniu żarnika energia potencjalna elektronów we żarniku (katodzie) wzrasta w ramach przygotowań do emisji elektronów. W tym momencie, po włączeniu napięcia 20KV]JI~ (2), żarnik (katoda) zaczyna emitować elektrony pod wpływem pola elektrycznego. Pod połączonym działaniem układu ogniskowania, cewki odchylającej i napięcia przyspieszającego elektrony emitowane przez żarnik (katodę) są gromadzone w wiązkę i emitowane z bardzo dużą prędkością do materiału filmowego lub części, która ma być przetwarzana.

Środki mające na celu poprawę warstwy folii urządzeń do powlekania próżniowego:

(1) Piec po galwanizacji. Po nałożeniu ostatniej warstwy folii nie przerywać natychmiast pieczenia i kontynuować „temperowanie” przez 10 minut. Spraw, aby struktura filmu była bardziej stabilna.

(1) Odpowiednio wydłuża się czas chłodzenia i przeprowadza się starzenie wyżarzające. Zmniejsz stres termiczny spowodowany nadmierną różnicą temperatur między wnętrzem i na zewnątrz komory próżniowej.

(2) Podczas procesu odparowywania folii o wysokim współczynniku odbicia i folii filtracyjnej temperatura podłoża nie powinna być zbyt wysoka, a wysoka temperatura łatwo generuje stres termiczny. I ma negatywny wpływ na stabilność optyczną tlenku tytanu, tlenku tantalu i innych materiałów filmowych.

(iii) Proces powlekania wspomagany jonami w celu zmniejszenia naprężeń.

(iv) Wybierz odpowiedni system folii do dopasowania, dopasowanie między pierwszą warstwą materiału folii a podłożem. (Na przykład pięciowarstwowa folia antyrefleksyjna przyjmuje Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 może również wykorzystywać SV -5 (mieszany materiał filmowy ZrO2 TiO2) lub inny mieszany materiał filmowy o wysokim współczynniku załamania światła.

(V) Odpowiednio zmniejszyć szybkość parowania (Al2O3-2.5A/S; ZrO2-3A/S; MgF2-6wartość referencyjna A/S)

(vi) Wszystkie materiały z filmu tlenkowego są wypełnione tlenem i powlekane reaktywnie, a ilość pobieranego tlenu jest kontrolowana zgodnie z różnymi materiałami filmu.

www.superbheater.com