Srebrzenie próżniowe wykorzystuje pola magnetyczne do interakcji z elektronami

Srebrzenie próżniowe wykorzystuje pola magnetyczne do interakcji z elektronami

Wspólny punkt: interakcja między polem magnetycznym a elektronami powoduje, że elektrony poruszają się po spirali w pobliżu powierzchni docelowej, zwiększając w ten sposób prawdopodobieństwo zderzenia elektronów z argonem w celu wytworzenia jonów. Wygenerowane jony uderzają w powierzchnię celu pod działaniem pola elektrycznego, powodując rozpylanie celu. W rozwoju ostatnich dziesięcioleci stopniowo przyjmowano magnesy trwałe, a magnesy cewkowe są rzadko używane.

Srebrzenie próżniowe Katodowe powlekanie łukiem jonowym:

Poprawia szybkość osadzania i jakość filmu; wytwarza również gęste, jednorodne mieszanki o doskonałej przyczepności

materiał filmowy

Srebrzenie próżniowe rozpylanie magnetronowe:

Na zasadzie rozpylania diodowego DC analizator węgiel-siarka jest wyposażony w stal magnetyczną za tarczą.

Wykorzystuje światło łuku do generowania energii elektrycznej dla źródła parowania.

Powłoka odparowująca do srebrzenia próżniowego

Powłoka z odparowaniem ogrzewania łukowego (szczególnie odpowiednia dla materiałów o wysokiej temperaturze topnienia i określonej przewodności, takich jak grafit; urządzenie jest proste i tanie, wadą jest to, że cząstki wielkości mikronów generowane przez wyładowanie wpłyną na konsystencję filmu) Wiązka laserowa powłoka parowania (można odparować dowolny materiał o wysokiej temperaturze topnienia) reaktywna powłoka parowania (odparowanie związków ogniotrwałych, takich jak fluorek magnezu, tlenek baru, tlenek cyny itp.)

Srebrzenie próżniowe Powłoka odparowująca wiązkę laserową

Powłoka z odparowaniem ogrzewania łukowego (szczególnie odpowiednia dla materiałów o wysokiej temperaturze topnienia i określonej przewodności, takich jak grafit; urządzenie jest proste i tanie, wadą jest to, że cząstki wielkości mikronów generowane przez wyładowanie wpłyną na konsystencję filmu) Wiązka laserowa powłoka parowania (można odparować dowolny materiał o wysokiej temperaturze topnienia) reaktywna powłoka parowania (odparowanie związków ogniotrwałych, takich jak fluorek magnezu, tlenek baru, tlenek cyny itp.)

Srebrzenie próżniowe Powłoka próżniowa z odparowaniem próżniowym można podzielić na:

Powłoka odporna na odparowywanie (odpowiednia do odparowywania materiałów o niskiej temperaturze topnienia, takich jak złoto, srebro, siarczek cynku, fluorek magnezu, trójtlenek chromu itp.) Powłoka odparowywana wiązką elektronów (może odparowywać metale ogniotrwałe, takie jak molibden, wolfram, german, dwutlenek krzemu itp.), tlenek glinu itp.) powłoka odparowująca z ogrzewaniem indukcyjnym o wysokiej częstotliwości (szybkość parowania jest wysoka, temperatura źródła parowania jest stabilna, operacja jest prosta, a wymagania dotyczące czystości materiału są szerokie.

www.superbheater.com