Adhezja między warstwą galwaniczną a podłożem z tworzywa sztucznego uzyskana przez elektryczną rurkę grzewczą do galwanizacji próżniowej

Adhezja między warstwą galwaniczną a podłożem z tworzywa sztucznego uzyskana przez elektryczną rurkę grzewczą do galwanizacji próżniowej

Platerowanie próżniowe musi odparować metal lub tlenek metalu, a temperatura ogrzewania nie powinna być zbyt wysoka, w przeciwnym razie gaz metaliczny zostanie osadzony na plastikowym podłożu, aby uwolnić ciepło i spalić plastikowe podłoże. Na napylane cząstki prawie nie ma wpływu grawitacja, a cel i położenie podłoża można dowolnie rozmieścić, gęstość zarodkowania jest wysoka w początkowej fazie tworzenia filmu i można wytwarzać bardzo cienkie ciągłe filmy poniżej 10 nm. Cel ma długą żywotność i może być zautomatyzowany i produkowany w sposób ciągły przez długi czas. Tarcza może mieć różne kształty, a specjalna konstrukcja maszyny zapewnia lepszą kontrolę i najbardziej wydajną produkcję. Napylanie wykorzystuje pole elektryczne wysokiego napięcia do generowania plazmowych materiałów powłokowych, przy użyciu prawie wszystkich metali, stopów i tlenków metali o wysokiej temperaturze topnienia. Takich jak: chrom, molibden, wolfram, tytan, srebro, złoto itp. Ponadto jest to proces osadzania wymuszonego. Adhezja między warstwą galwaniczną a podłożem z tworzywa sztucznego uzyskanym w tym procesie jest znacznie większa niż w przypadku metody galwanizacji próżniowej. Ale koszt przetwarzania Stosunkowo wysoki.

Próżniowe powlekanie elektryczne przyleganie folii grzewczej jest lepsze niż parowanie

Magnetron sputtering: an orthogonal electromagnetic field is formed on the surface of the cathode target, the electron density in this area is high, and the ion density is further increased, so that the sputtering rate is increased (one order of magnitude), and the sputtering speed can reach 0.1-1um/min. The focus is better than evaporation, and it is one of the most practical coating technologies at present. Others include bias sputtering, reactive sputtering, ion beam sputtering and other coating technologies. Sputtering machine equipment and technology (magnetron sputtering) It consists of vacuum chamber, exhaust system, sputtering source and control system. The sputtering source is further divided into power supply and sputter gun. The magnetron sputtering gun is divided into flat type and cylindrical type. The flat type is divided into rectangular type and circular type. The target material utilization rate is 30-40%. The cylindrical target Material utilization >50 procent Rozpylanie dzieli się na: prąd stały (DC), częstotliwość radiowa (RF), impuls (impuls), DC: 800-1000 V (Max) dla przewodów, musi być zdolny do łuku awaryjnego. RF: 13,56 MHZ, nieprzewodzący.

Jakie są elementy kontroli po galwanizacji elektrycznej rurki grzewczej do galwanizacji próżniowej

1. Grubość filmu;

2. Kontrola montażu;

3. Przyczepność powłoki;

4. Test twardości;

5. Test zużycia;

www.superbheater.com